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    光學膜厚儀基于干涉原理的精密測量技術解析
    2025-07-15

    光學膜厚儀作為現代材料科學中至關重要的精密測量工具,其核心原理基于光的干涉現象與薄膜光學特性。當一束光波照射至透明或半透明薄膜表面時,部分光在膜層上表面反射,另一部分穿透膜層后在下表面反射,兩束反射光因光程差產生干涉現象。通過分析干涉圖樣的...

    • 2020-09-25

      Subnano3D干涉輪廓儀建立在移相干涉測量(PSI)、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測量(CSI)等技術的基礎上,以其納米級測量準確度和重復性(穩定性)定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、臺階高度、關鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術、材料、太陽能電池技術等領域。Subnano3D干涉輪廓儀產品優點:1、美國硅谷研發的核心技術和系統軟件。2、關鍵硬件采用美國、德國、日本等。3、PI納米移...

    • 2020-09-21

      HerzTS主動隔振臺介紹:在21世紀納米技術(即先進的半導體代表相關的信息技術,基因療法等生命科學相關技術,原子或分子處理如MEMS和工程技術等新材料生產),振動、噪聲、電磁領域、熱、濕度、干擾等是測量環境的抑制因素。在納米技術中,為了獲得可靠的結果,使用充氣被動隔振臺無法隔離低頻振動,此時需要主動隔離。主動式隔振系統“TS系列”將作為21世紀納米技術的隔振技術基礎。它將有助于發展目前的技術和測量、創新和發展未知的技術。HerzTS主動隔振臺特點:1、在全部的6個自由度范圍...

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