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    全自動(dòng)帶顯微鏡多點(diǎn)測(cè)量膜厚儀

    簡(jiǎn)要描述:硬化涂層膜厚儀是一款快 速、準(zhǔn)確測(cè)量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個(gè)微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。

    • 產(chǎn)品型號(hào):FR-Mic
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 產(chǎn)品資料:查看pdf文檔
    • 更新時(shí)間:2025-03-07
    • 訪  問  量: 11189

    詳細(xì)介紹

    硬化涂層膜厚儀是一款快 速、準(zhǔn)確測(cè)量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個(gè)微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺(tái)計(jì)算機(jī)控 制的XY工作臺(tái),使其快 速、方便和準(zhǔn)確地描繪樣品的厚度和光學(xué)特性圖。品牌屬于Thetametrisis。

    Thetametrisis利用 FR-Mic,通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對(duì)局部區(qū)域薄膜厚度,厚度映射,光學(xué)常數(shù),反射率,折射率及消光系數(shù)進(jìn)行測(cè)量。

    膜厚測(cè)量儀相關(guān)應(yīng)用】

    1.高校 & 研究所實(shí)驗(yàn)室

    2.半導(dǎo)體制造

    3.(氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻膠及其他半導(dǎo)體薄膜.)

    4.MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)

    5.LEDs, VCSELs

    6.數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

    7.陽極處理

    8.曲面基底的硬鍍及軟鍍

    9.聚合物膜層, 粘合劑

    10.生物醫(yī)學(xué)(聚對(duì)二甲苯, 生 物膜/氣泡壁厚度.)

    11.還有許多…

    Thetametrisis膜厚儀特點(diǎn)】

    1、實(shí)時(shí)光譜測(cè)量

    2、薄膜厚度,光學(xué)特性,非均勻性測(cè)量, 厚度映射

    3、使用集成的,USB連接高品質(zhì)彩色攝像機(jī)進(jìn)行成像

     

     

    Thetametrisis膜厚測(cè)量儀產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)】

    1、單擊即可分析 (無需初始預(yù)測(cè))

    2、動(dòng)態(tài)測(cè)量

    3、包含光學(xué)參數(shù) (n & k, color)

    4、可保存測(cè)量演示視頻錄像

    5、超過 600 種不同材料o 多個(gè)離線分析配套裝置o 免費(fèi)操作軟件升級(jí)

    膜厚測(cè)量儀技術(shù)參數(shù)】

    型號(hào)

    UV/VIS

    UV/NIR-EXT

    UV/NIR-HR

    DUV/NIR

    VIS/NIR

    DVIS/NIR

    NIR

    光譜波長范圍(nm)

    200–850

    200–1020

    200-1100

    200–1700

    370–1020

    370–1700

    900–1700

    光譜儀像素

    3648

    3648

    3648

    3648&512

    3648

    3648&512

    512

    膜厚測(cè)量范圍

    5X-VIS/NIR

    15nm–60μm

    15nm–70μm

    15nm–90μm

    15nm–150μm

    15nm–90μm

    15nm–150μm

    100nm–150μm

    10X-VIS/NIR

    10X-UV/NIR*

    4nm–50μm

    4nm–60μm

    4nm–80μm

    4nm–130μm

    15nm–80μm

    15nm–130μm

    100nm–130μm

    15X-UV/NIR*

    4nm–40μm

    4nm–50μm

    4nm–50μm

    4nm–120μm

    20X-VIS/NIR

    20X-UV/NIR*

    4nm–25μm

    4nm–30μm

    4nm–30μm

    4nm–50μm

    15nm–30μm

    15nm–50μm

    100nm–50μm

    40X-UV/NIR*

    4nm–4μm

    4nm–4μm

    4nm–5μm

    4nm–6μm

    50X-VIS/NIR

    15nm–5μm

    15nm–5μm

    100nm–5μm

    測(cè)量n&k蕞小厚度

    50nm

    50nm

    50nm

    50nm

    100nm

    100nm

    500nm

    光源

    氘燈&鹵素?zé)?internal)

    鹵素?zé)?internal)

    材料數(shù)據(jù)庫

    >600不同材料

    *測(cè)量面積(收集反射或透射信號(hào)的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關(guān)。

    物鏡

    光斑尺寸(μm)

    500μm孔徑

    250μm孔徑

    100μm孔徑

    5x

    100μm

    50μm

    20μm

    10x

    50μm

    25μm

    10μm

    20x

    25μm

    17μm

    5μm

    50x

    10μm

    5μm

    2μm

    【工作原理】

     

     

    *規(guī)格如有更改,恕不另行通知, 測(cè)量結(jié)果與校準(zhǔn)的光譜橢偏儀和 XRD 相比較, 連續(xù) 15 天測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)方差平均值。樣品:1um SiO2 on Si., 100 次厚度測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)方差,樣品:1um SiO2 on Si.

    *超過 15 天的標(biāo)準(zhǔn)偏差日平均值樣品:1um SiO2 on Si。

    以上資料來自Thetametrisis,如果有需要更加詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們獲取。

     

     

     

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